@misc{Pawłowska_Joanna_Zastosowanie_2008,
 author={Pawłowska Joanna},
 volume={36},
 editor={Bańkowska Anna},
 number={3},
 copyright={Rights Reserved - Free Access},
 address={Warszawa},
 journal={Electronic Materials},
 howpublished={online},
 year={2008},
 publisher={ITME},
 language={pol},
 type={Text},
 title={Zastosowanie selektywnego trawienia chemicznego do określenia położenia ścięć bazowych na monokrystalicznych płytkach o orientacji (100) wiązków półprzewodnikowych typu AIIIBV Joanna Pawłowska, Anna Bańkowska. = Application of selective chemical etching to producing on the orientation flats on the wafers III-V semiconducting compounds},
 URL={http://www.rcin.org.pl/Content/7175/PDF/WA901_16003_M1-r2008-t36-z3_Mater-Elektroniczne_Pawlowska_i.pdf},
 keywords={Electronic - materials, Electronic - journal - materials, flats, chemical etching AIIIBV materials},
}