@misc{Wesołowski_Marek_Zastosowanie_2007,
 author={Wesołowski Marek},
 volume={35},
 number={3/4},
 copyright={Rights Reserved - Free Access},
 address={Warszawa},
 journal={Electronic Materials},
 howpublished={online},
 year={2007},
 publisher={ITME},
 language={pol},
 type={Text},
 title={Zastosowanie oprogramowania wspomagającego kontrolowanie procesu epitaksji związków półprzewodnikowych w technologii MOCVD = The application of semiconductor epitaxy supporting software in MOCVD technology},
 URL={http://www.rcin.org.pl/Content/6769/PDF/WA901_15943_M1-r2007-t35-z3-4_Mater-Elektroniczne_Wesolowski_i.pdf},
 keywords={Electronic - materials, Electronic - journal - materials, MOCVD, heterostructure, AIIIBV},
}