@misc{Wierzchowski_Wojciech_Badanie_1975,
 author={Wierzchowski Wojciech},
 volume={10},
 number={2},
 copyright={Rights Reserved - Free Access},
 address={Warszawa},
 journal={Electronic Materials},
 howpublished={online},
 year={1975},
 publisher={Wydaw. Przemysłu Maszynowego "WEMA"},
 language={pol},
 type={Text},
 title={Badanie dyslokacji w krzemie i w krzemowych warstwach epitaksjalnych za pomocą rentgenowskiej topografii odbiciowej metodą Berga-Barretta = The investigation of dislocations in Si and in epitaxial Si layers by Berg-Barret x-ray reflection topography},
 URL={http://www.rcin.org.pl/Content/19800/PDF/WA901_10751_M1_r1975-z2-10_Mater-Elektron-Wierz_i.pdf},
 keywords={Electronic - materials, Electronic - journal - materials, dislocation, epitaxial Si layer, X-ray reflection topography},
}