@misc{Skrzynecka_Irena_Badania_1974,
 author={Skrzynecka Irena},
 number={8},
 copyright={Rights Reserved - Free Access},
 address={Warszawa},
 journal={Electronic Materials},
 howpublished={online},
 year={1974},
 publisher={Wydaw. Przemysłu Maszynowego "WEMA"},
 language={pol},
 type={Text},
 title={Badania zależności składu i struktury chemicznie osadzonych warstw azotku krzemu od parametrów procesu technologicznego = Investigation of chemically deposited Si3N4 films composition and structure-depending on technological process parameters},
 URL={http://www.rcin.org.pl/Content/19679/PDF/WA901_10557_M1_r1974-z7_Mater-Elektron-Skrzy_i.pdf},
 keywords={Electronic - materials, Electronic - journal - materials, Si3N4, CVD},
}